반도체 분석

제1장 박막의 형성
1.1 박막 / 1.2 결합의 종류 / 1.3 원자와 전자
제2장 화학적 증착법
2.1 화학적 증착법에 의한 결합 / 2.2 고분자의 중합 / 2.3 부가중합반응에 의한 박막의 형성
제3장 플라즈마
3.1 플라즈마의 정의 / 3.2 플라즈마의 특성 / 3.3 플라즈마 유지(이차전자방출) / 3.4 쉬스(sheath) / 3.5 PVD / 3.6 ALD / 3.7 CVD
제4장 유전체 특성
4.1 반도체 재료의 결함구조 / 4.2 유전체와 커패시터 / 4.3 유전체의 전압?전류 반응
제5장 반도체 소자
5.1 PN 접합 커패시터 / 5.2 전기적인 계면특성 / 5.3 MOS 커패시터 / 5.4 MOSFET / 5.5 OTFT(Organic Thin Film Transistor) / 5.6 PN 접합 태양전지
제6장 분광법
6.1 반도체의 박막분석과 분광학 / 6.2 PL / 6.3 라만 분광기(Raman Spectroscopy) / 6.4 FTIR(푸리에변환 적외선 분광기)
제7장 반도체 공정실습