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책 정보
· 제목 : Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications (Hardcover) 
· 분류 : 외국도서 > 컴퓨터 > 로직 설계
· ISBN : 9780815512882
· 쪽수 : 251쪽
· 출판일 : 1992-12-31
· 분류 : 외국도서 > 컴퓨터 > 로직 설계
· ISBN : 9780815512882
· 쪽수 : 251쪽
· 출판일 : 1992-12-31
목차
Introduction
The Blanket Tungsten Approach
The Selective Tungsten Approach
Blanket Versus Selective Tungsten
Tungsten as Interconnect Material
The Chemistry of CVD-W and Properties of Tungsten
The Deposition Equipment
Miscellaneous
Chemical Vapor Deposition of Tungsten Silicide
References
Author Index
Subject Index
Appendix: Unit Cells of W and WSi2
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