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책 정보
· 제목 : 반도체 소자 공정기술의 기초 
· 분류 : 국내도서 > 대학교재/전문서적 > 공학계열 > 전기전자공학 > 반도체공학
· ISBN : 9788970888989
· 쪽수 : 806쪽
· 분류 : 국내도서 > 대학교재/전문서적 > 공학계열 > 전기전자공학 > 반도체공학
· ISBN : 9788970888989
· 쪽수 : 806쪽
목차
1 반도체 산업의 전망
2 반도체 물질의 특성
3 소자기술
4 실리콘과 웨이퍼 제조
5 반도체 제조공정에서의 화학물질
6 웨이퍼 제조공정 설비에서의 오염 제어
7 도량형학과 결함 검사
8 공정실의 가스제어
9 IC 제조공정의 개관
10 산화공정
11 증착법
12 금속화 공정
13 포토리소그래피: 부드러운 굽기를 위한 증기 프라임
14 포토리소그래피 정렬과 노출
15 포토리소그래피: 포토레지스트 현상과 개선된 리소그래피
16 식각
17 이온주입
18 CMP
19 웨이퍼 검사
20 조립과 포장
부록1 화학물질과 안전
부록2 청정실에서의 오염의 통제
부록3 단위
부록4 산화 농도의 기능에 따른 색
부록5 포토 레지스트 화학의 개관
부록6 식각 화학
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