반도체 개론과 공정

1장 반도체 이론(Semiconductor Theory)
1.1 전기(Electric)
1.2 원자(Atom)
1.3 반도체(Semiconductor)
연습문제(Excercise)

2장 실리콘 결정(Wafer crystal)
2.1 결정 구조(Crystal structure)
2.2 결정면(Crystal plane)
2.3 단결정 성장(Single crystal growth)
연습문제(Excercise)

3장 실리콘 웨이퍼 세정, 성장, 제조(Clean, Growth, make)
3.1 크린룸(Clean room)
3.2 웨이퍼 세정(Wafer clean)
3.3 웨이퍼 성장(Wafer growth)
3.4 웨이퍼 제조(Wafer make)
연습문제(Excercise)

4장 산화공정(Oxidation)
4.1 산화(Oxidation)
4.2 도펜트 주입(Dopant implantation)
연습문제(Excercise)

5장 박막 증착(Thinfilm deposition)
5.1 물리기상증착(PVD: physical vapor deposition)
5.2 화학기상증착(CVD: chemical vapor deposition)
5.3 금속막 형성(Metal membrane)
연습문제(Excercise)

6장 포토리소그래피와 소자 제조(PhotoLithography, Device making)
6.1 마스크(Mask)
6.2 감광액(Photoresist, PR)
6.3 포토 리소그래피(Photolithography process)
6.4 소자 제조(Device making)
6.5 MOSFET 제조(MOSFET make)
6.6 패키지(Package)
연습문제(Excercise)

Appendix