logo
logo
x
바코드검색
BOOKPRICE.co.kr
책, 도서 가격비교 사이트
바코드검색

인기 검색어

실시간 검색어

검색가능 서점

도서목록 제공

반도체 제조 공정

반도체 제조 공정

(핵심 원리와 최신 기술)

임상우 (지은이)
한빛아카데미(교재)
22,000원

일반도서

검색중
서점 할인가 할인률 배송비 혜택/추가 실질최저가 구매하기
22,000원 -0% 0원
220원
21,780원 >
yes24 로딩중
교보문고 로딩중
11st 로딩중
영풍문고 로딩중
쿠팡 로딩중
쿠팡로켓 로딩중
G마켓 로딩중
notice_icon 검색 결과 내에 다른 책이 포함되어 있을 수 있습니다.

중고도서

검색중
서점 유형 등록개수 최저가 구매하기
로딩중

eBook

검색중
서점 정가 할인가 마일리지 실질최저가 구매하기
aladin 22,000원 -10% 1100원 18,700원 >

책 이미지

반도체 제조 공정
eBook 미리보기

책 정보

· 제목 : 반도체 제조 공정 (핵심 원리와 최신 기술)
· 분류 : 국내도서 > 대학교재/전문서적 > 공학계열 > 전기전자공학 > 반도체공학
· ISBN : 9791173400490
· 쪽수 : 268쪽
· 출판일 : 2026-01-19

책 소개

반도체 분야 학부생과 대학원생, 산업체 엔지니어를 대상으로 웨이퍼 제작부터 패키징까지 전 공정과 후 공정의 흐름을 체계적으로 정리했다. 공정별 핵심 개념과 원리, 최신 기술과 동향을 함께 다룬다.

목차

CHAPTER 01 반도체 제조 기초
1.1 에너지 밴드
1.2 실리콘 결정
1.3 Si 웨이퍼
1.4 반도체 제조 Fab
1.5 수율
1.6 반도체 기술 발전
1.7 반도체 공정
연습문제

CHAPTER 02 산화
2.1 SiO2의 특징 및 형성
2.2 Si의 산화 메커니즘
2.3 반응 속도상수의 해석
연습문제

CHAPTER 03 포토리소그래피
3.1 포토리소그래피
3.2 포토레지스트의 종류
3.3 포토마스크와 노광 시스템
3.4 광원
3.5 선폭을 축소시키는 다양한 기술
3.6 EUV 리소그래피
연습문제

CHAPTER 04 습식 식각 및 세정
4.1 식각 및 세정
4.2 습식 식각
4.3 습식 세정
4.4 웨이퍼 건조
4.5 습식 식각의 방향성
연습문제

CHAPTER 05 건식 식각
5.1 건식 식각
5.2 플라즈마
5.3 건식 식각의 장비
5.4 건식 식각 메커니즘
5.5 Deep RIE 공정
5.6 건식 식각의 공정 파라미터
5.7 건식 식각의 다양한 식각 프로파일
연습문제

CHAPTER 06 확산
6.1 확산 공정 및 반응
6.2 픽의 법칙과 확산계수
6.3 확산의 종류
6.4 접합
6.5 전기적 성질
연습문제

CHAPTER 07 이온주입
7.1 이온주입
7.2 이온주입에 따른 농도 프로파일
7.3 이온주입 후의 도펀트 농도 프로파일 변화
7.4 고집적화를 위한 이온주입 공정
7.5 이온주입 모델의 예
7.6 이온주입이 적용되는 공정의 예
연습문제

CHAPTER 08 박막 증착
8.1 박막 증착 원리
8.2 물리적 기상 증착
8.3 화학 기상 증착
8.4 전해도금
연습문제

CHAPTER 09 CMP
9.1 CMP의 필요성
9.2 CMP 공정의 장비
9.3 슬러리
9.4 연마 패드 및 컨디셔너
9.5 CMP의 반응 메커니즘
9.6 CMP가 적용되는 공정의 예
9.7 CMP 공정의 개선
연습문제

CHAPTER 10 배선
10.1 배선의 필요성
10.2 배선 금속
10.3 저유전율 유전체
연습문제

CHAPTER 11 패키징
11.1 패키징
11.2 전통적 패키징 기술
11.3 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키징
11.4 팬 아웃 웨이퍼 레벨 패키징
11.5 차세대 패키징 기술
연습문제

참고문헌
찾아보기

저자소개

임상우 (지은이)    정보 더보기
연세대학교 화학공학과에서 학·석사 학위를 취득했으며, 일본 동경대학 화학시스템공학과에서 반도체 PECVD 공정 관련 박사 학위를 받았다. 이후 미국 스탠퍼드대학교의 Department of Electrical Engineering에서 연구원으로 재직했고, 미국 모토로라 사에서 Principle Staff Scientist로 Apple PowerPC의 소자 인테그레이션을 담당했다. 현재 연세대학교 화공생명공학과 교수로 재직 중이며, 연구 분야는 에칭, 세정, CMP 등을 비롯한 반도체 표면과 관련된 공정 및 소재 개발이다. 연세대학교 화공생명공학과 BK21 사업단장, 엔지니어링 융합대학원 사업단장 등을 역임했고, 현재 한국 반도체 CMPUGM 회장, 한국반도체디스플레이기술학회 부회장, SEMICON KOREA STS 위원, International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology(SCST) 위원장 등을 맡고 있다.
펼치기
이 포스팅은 쿠팡 파트너스 활동의 일환으로,
이에 따른 일정액의 수수료를 제공받습니다.
이 포스팅은 제휴마케팅이 포함된 광고로 커미션을 지급 받습니다.
도서 DB 제공 : 알라딘 서점(www.aladin.co.kr)
최근 본 책
9791173409448