표면공학

1장 증착기술 개론
1.1 시장
1.2 서론
1.3 목표 및 범위
1.4 정의와 개념
1.5 물리증착(PVD)공정의 용어
1.6 코팅공정의 분류
1.7 코팅기술의 응용
1.8 공정선택 기준
1.9 요약

2장 수용액으로부터의 착막
2.1 서론
2.2 전착의 원리
2.3 공정기술
2.4 전착층의 선택
2.5 특수 공정
2.6 전착층의 구조와 성질
2.7 최근 연구 동향

3장 증착공정의 플라즈마
3.1 서론
3.2 분자 운동
3.3 협동 현상
3.4 플라즈마 방전
3.5 플라즈마 체적 반응
3.6 표면 반응

4장 코팅공정을 위한 표면준비
4.1 서론
4.2 오염
4.3 환경 제어
4.4 세척 공정
4.5 건조와 탈개스
4.6 세정의 탐지
4.7 즉석 세정
4.8 플라즈마
4.9 저장과 취급
4.10 활성화와 예민화
4.11 표면 개질
4.12 부동태화와 보존

5장 증발법
5.1 서론
5.2 PVD 공정
5.3 이론과 기구
5.4 증발공정과 장비
5.5 증발 소스
5.6 레이저 유도 증발/레이저 증발/펄스 레이저 증착(PLD)
5.7 증착속도 측정기와 조업제어
5.8 다양한 물질의 증발
5.9 PVD 코팅층의 미세구조
5.10 기계적 및 기타 성질
5.11 최근 연구 동향

6장 스퍼터 증착 공정
6.1 서론
6.2 스퍼터링 기구
6.3 스퍼터 증착기술
6.4 스퍼터 증착방법
6.5 최근 연구동향

7장 이온플레이팅
7.1 서론
7.2 플라즈마 증강
7.3 플라즈마 화학공정
7.4 표면에서의 충격효과
7.5 증착 원자들의 소스(source)
7.6 반응성 이온도금
7.7 피막특성에 미치는 조사(bombardment)의 영향
7.8 이온 플레이팅 시스템의 필요조건
7.9 공정감시와 제어
7.10 문제 영역
7.11 응용

8장 화학증착법
8.1 서론
8.2 CVD에서 중요한 반응 영역들
8.3 CVD실험의 설계
8.4 개스 유체역학
8.5 CVD의 율속 지배단계
8.6 반응 메카니즘
8.7 핵생성
8.8 표현 형태와 CVD 물질의 미세구조
8.9 선택적 증착
8.10 CVD 기술의 몇 가지 적용들
8.11 최근 연구 동향

9장 플라즈마 화학증착법
9.1 서론
9.2 반응기의 플라즈마 거동에의 영향
9.3 CVD에 의해 증착된 박막들

참고문헌
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